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    項目介紹

    工作原理：根據(jù)計算機(jī)圖形數(shù)據(jù)文件，對光刻膠等近紫外感光材料進(jìn)行直寫曝光或在其他光刻基板上進(jìn)行圖形化直寫。

    樣品要求

    1.LD 固體激光器 405nm±10nm波長

    2. 樣品尺寸：8英寸及以下,支持規(guī)則或不規(guī)則形狀的基底; 包括 Si、SiN、GaAs、InP、SiC 等透明、半透明、不透明基底

    3. 分辨率＞600nm  ，采用空間光調(diào)制器頻閃掃描曝光/ 連續(xù)光曝光

    4.可支持厚光刻膠曝光、支持二次重復(fù)對準(zhǔn)曝光。

    5.支持文件格式：GDSII、BMP

    項目案例

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