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    同步輻射GIWAXS/GISAXS測(cè)試

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    同步輻射GIWAXS/GISAXS測(cè)試

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    項(xiàng)目介紹

    掠入射X射線散射（GIXS）包括掠入射廣角散射（GIWAXS）和掠入射小角度散射（GISAXS），是基于同步輻射光源的X射線散射技術(shù)，用于表征表面或薄膜中的納米級(jí)密度相關(guān)性、納米物體形狀以及晶格中的原子和分子距離，被廣泛應(yīng)用于研究有機(jī)太陽(yáng)能電池、鈣鈦礦太陽(yáng)能電池的形貌特征、晶體結(jié)構(gòu)等。


    例如在OPV材料結(jié)構(gòu)研究中，GIWAXS被用來(lái)探測(cè)分子尺度、結(jié)構(gòu)信息，常用于研究有機(jī)給體和受體材料在活性層中的分子堆疊，如結(jié)晶度、晶格常數(shù)和取向性。GISAXS可以看作是傳統(tǒng)小角散射和全反射測(cè)量的結(jié)合，能夠獲得表面、薄膜、覆蓋層中的納米結(jié)構(gòu)（如納米顆粒、量子點(diǎn)等）的尺寸分布、形狀以及排列分布的相關(guān)信息。


    提供優(yōu)質(zhì)快速的GIXS測(cè)試和數(shù)據(jù)分析服務(wù)，目前已同南昌大學(xué)、南京理工、華南理工、電子科大等眾多OPV、鈣鈦礦課題組開(kāi)展測(cè)試合作。

    樣品要求

    提示：GIWAXS/GISAXS測(cè)試有同步輻射光源和常規(guī)光源，請(qǐng)先根據(jù)文獻(xiàn)或測(cè)試需求確認(rèn)是否需要同步輻射光源測(cè)試GIWAXS/GISAXS。


    1.樣品測(cè)試請(qǐng)?zhí)峁?span style="color: rgb(230, 0, 0);">空白基底樣，要求在空白基底上沉積與器件制備工藝一致的傳輸層且測(cè)試收費(fèi)；

    2.基底多為單晶硅，可提供，若自行準(zhǔn)備尺寸不可超過(guò)2.5*2.5cm，1*1cm最好，默認(rèn)樣品不回收；

    3.測(cè)試前請(qǐng)明確測(cè)試條件，如q值范圍、掠入射角度范圍、曝光時(shí)間等；

    4.如對(duì)數(shù)據(jù)格式、數(shù)據(jù)處理有疑問(wèn)，請(qǐng)先瀏覽數(shù)據(jù)說(shuō)明；

    5.同步輻射項(xiàng)目測(cè)試為機(jī)時(shí)預(yù)約制，需測(cè)試前付費(fèi)預(yù)約；

    6.請(qǐng)根據(jù)材料的耐氧、耐濕等性質(zhì)，妥善封裝樣品；

    7.如有任何測(cè)試相關(guān)問(wèn)題，請(qǐng)聯(lián)系負(fù)責(zé)人解答。

    項(xiàng)目案例

    Adv.Funct.Mater.2020,1909837:三元有機(jī)太陽(yáng)能電池

    J.Mater.Chem.A.2020.8.5458-5466:非富勒烯太陽(yáng)能電池

    常見(jiàn)問(wèn)題
    1、測(cè)試效果不好是什么原因?qū)е拢?/div>

    散射信號(hào)會(huì)包含基底的信息，如不能完全扣除背底信號(hào)，就會(huì)導(dǎo)致無(wú)效信號(hào)干擾樣品信號(hào)，同時(shí)以下情況也是原因之一

    1.    制樣不均勻，光斑打在了不合適位置；

    2.    樣品表面不平整，影響信號(hào)；

    3.    掠入射角度選擇不適宜；

    4.    線站測(cè)試問(wèn)題，如光束線不穩(wěn)等。

    2、積分是怎么獲得的？

    數(shù)據(jù)處理可以得到2D圖，處理轉(zhuǎn)換得到面內(nèi)外積分，角度積分，并不是直接測(cè)試得出

    3、測(cè)試波長(zhǎng)是否可調(diào)節(jié)？

    一般可以調(diào)節(jié)，需要先確認(rèn)適用波長(zhǎng)，并與線站溝通是否能達(dá)到條件。

    同步輻射GIWAXS/GISAXS測(cè)試

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